[서울=뉴스핌] 장현석 기자 = 검찰이 SK하이닉스와 삼성전자의 반도체 관련 국가핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 반도체 장비업체 및 관계자 17명을 재판에 넘겼다.

서울중앙지검 영업비밀유출·정보통신범죄전담부(조상원 부장검사)는 산업기술보호법위반, 부정경쟁방지법위반(영업비밀국외누설등) 등 혐의를 받는 D사의 연구소장, 부사장 및 협력업체 대표 등 17명을 재판에 넘겼다고 26일 밝혔다.

검찰은 SK하이닉스의 반도체 제조 및 세정 관련 국가핵심기술을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 D사 연구소장과 영업그룹장 등 2명을 구속 기소했다.

또 삼성전자의 자회사인 반도체 장비업체 C사의 반도체 세정장비 관련 첨단기술을 취득한 뒤 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 D사의 공정그룹장과 공장장, 하청업체 대표 등 3명도 구속 상태로 재판에 넘겼다.

이밖에 범행에 가담한 D사 부사장, 품질그룹장, C사의 전직 직원 등 12명을 산업기술보호법위반죄 등으로 불구속 기소했다.

검찰은 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심 기술이 중국 반도체 업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받고 2020년 7월 본격적인 수사에 착수했다.

검찰에 따르면 이들은 지난 2018년 8월~지난해 6월 SK하이닉스의 HKMG 반도체 제조 기술 및 반도체 세정 레시피 등 반도체 관련 국가핵심기술과 첨단기술, 영업비밀 등을 국외로 누설한 혐의를 받고 있다.

HKMG(High-K Metal Gate)은 D램 반도체의 성능을 향상시키기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용한 최신 반도체 제조 공정 기술이다.

또 2017년 3월부터 지난해 8월에는 삼성전자와 세메스의 전직 직원 등으로부터 취득한 초임계 세정장비 도면 등 반도체 관련 첨단기술과 영업비밀을 수출용 반도체 세정장비 개발에 사용한 혐의도 받고 있다.

세메스는 삼성전자의 자회사로 세계 최초 최첨단 초임계 세정장비를 개발한 회사다. 초임계(액체와 기체의 중간 성질) 세정장비는 액체 이산화탄소를 이용해 반도체 세정용 화학물질을 건조하는 반도체 세정장비다.

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