[서울=뉴스핌] 이성화 기자 = SK하이닉스와 삼성전자 자회사 세메스(SEMES)의 반도체 핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 기소된 반도체 장비업체와 임직원들이 항소심에서 1심보다 무거운 형을 선고받았다.

서울고법 형사7부(이재권 부장판사)는 18일 부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률(부정경쟁방지법) 위반 등 혐의로 기소된 A사 부사장 신모 씨에게 징역 1년을 선고한 1심과 달리 징역 1년6개월을 선고했다.

법원 로고. [사진=뉴스핌DB]

함께 기소된 A사 연구소장, 품질그룹장, 영업그룹장 등 임직원 3명에 대해서도 각 징역형 집행유예를 선고한 1심을 파기하고 징역 1년~징역 1년6개월의 실형을 선고했다.

또 A사에 대해서도 벌금 10억원을 선고했다. 1심은 벌금 4억원을 선고했는데 벌금액을 대폭 올린 것이다.

재판부는 1심과 달리 이들이 SK하이닉스의 반도체 세정장비 사양 정보를 SK하이닉스의 경쟁업체에 전달한 혐의도 유죄로 판단했다.

그러면서 "A사와 SK하이닉스 간 공동개발계약서 내용에 비춰보면 A사가 공동개발 결과물이나 SK하이닉스에서 제공받은 파생기술을 경쟁업체 등 제3자에 은밀히 제공·공개하는 행위도 금지 대상이거나 적어도 사전 동의를 얻어야 한다"고 설명했다.

재판부는 "피고인들이 사실관계를 대체로 인정하면서 반성하는 태도를 보이는 점, 당심에서 피해 회복을 위해 일정 금원을 공탁한 점은 유리한 정상"이라면서도 "관련 사건 공범들에게 확정된 양형과의 형평성을 고려했다"고 실형 선고 이유를 밝혔다.

이어 "SK하이닉스의 중요 산업기술인 영업비밀을 임의로 경쟁업체 유출하거나 경쟁업체인 세메스의 중요 산업기술과 영업비밀을 부정 취득한 범행은 여러 가지 면에서 심각한 위해를 초래할 수 있는 중대한 범죄"라고 했다.

특히 "유출한 정보에는 10나노급 D램 반도체 제조 공정 기술이자 가장 최신 기술로 평가받는 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술에 관한 국가핵심기술이 포함돼 있어 SK하이닉스에 심각한 피해를 초래했다"고 지적했다. 

신씨에 대해서는 "이 사건 범행을 지휘하며 깊이 관여했고 그 피해는 세메스뿐만 아니라 우리나라 산업 전반에도 큰 영향을 미쳤다"며 "세메스가 세계 최초로 개발한 기술을 활용해 실제 초임계 세정장비 설계·제작을 실행한 점에 비춰 피해 규모나 위험성이 상당하며 세메스가 엄벌을 탄원하고 있는 점을 고려했다"고 했다.

앞서 A사와 임직원들은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스의 HKMG 반도체 제조 기술 및 반도체 세정 레시피 등을 중국 반도체 업체에 누설한 혐의로 2021년 1월 재판에 넘겨졌다.

검찰에 따르면 이들은 2017년 3월부터 2020년 8월까지 세메스가 세계 최초로 개발한 초임계 세정장비 도면 등 반도체 관련 기술과 영업비밀을 전직 세메스 직원으로부터 취득해 자신들의 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 혐의도 받는다.

이들과 공범으로 기소된 A사 하청업체 대표와 전 세메스 직원은 징역 1년6개월의 실형을 확정받았다. 

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