2나노 설계 경쟁력 입증…딥엑스와 전략적 협력 확대
[서울=뉴스핌] 이나영 기자= 시스템 반도체 설계 전문기업 가온칩스가 삼성 파운드리(Foundry)의 2나노 공정 기반 인공지능(AI) 반도체 설계 과제를 또 한 번 수주했다고 2일 밝혔다.
이번 프로젝트는 온디바이스 AI 반도체 기업 딥엑스의 차세대 생성형 AI 칩 'DX-M2' 개발을 위한 것으로, 양사는 전 세대 협업을 뛰어넘는 전략적 동반자 관계를 이어가고 있다. 딥엑스는 이번 삼성 2나노 계약으로 초저전력 생성형 AI 온디바이스 추론을 위한 차세대 제품 'DX-M2'의 본격 반도체 제작에 착수하게 돼 삼성 Foundry 2나노 공정의 국내 상용 고객이 된다.
시제품 제작을 위한 MPW는 오는 2026년 상반기 팹인 예정으로, 양산은 2027년으로 예상된다. 이번 프로젝트는 2나노 시스템 반도체 생태계 조기 구축에 중요한 견인차 역할이 될 것으로, 국내 시스템 반도체 산업 생태계가 본격적으로 확대되는 계기가 될 것이다.
지난 7월부터 양산 중인 딥엑스의 1세대 제품 'DX-M1'은 삼성 5나노 기반으로 온디바이스 AI 엣지 디바이스 시장에서 독자적인 기술력으로 큰 주목을 받고 있다. 초소형 IoT 기기부터 고성능 로봇까지 다양한 환경에서 최소 전력으로도 강력한 AI 연산이 가능해 지난 1월 미국 EE Times의 '2024 올해의 제품상'과 CES 2024 혁신상 3관왕 수상 등 글로벌 시장에서도 기술 경쟁력을 인정받았다.
가온칩스는 'DX-M1' 칩의 디자인 솔루션 파트너로서 성공적인 개발과 양산 성과를 달성한 바 있으며, 이번 'DX-M2' 프로젝트 역시 이러한 기술적 신뢰를 바탕으로 한 협력의 확장으로 평가된다.
김녹원 딥엑스 대표는 "생성형 AI와 멀티모달 AI을 위한 2 세대 NPU 설계 초안이 마무리 되고 있어, 2세대 제품 'DX-M2'의 본격 제작에 착수하게 되어 매우 뜻 깊다"며 "2나노 공정 기술을 시도하는 만큼, 2나노 공정의 가진 잠재력을 최대한 끌어내서 5와트의 전력 소모로 100B 상당의 생성형 AI가 온디바이스에서 구동되는 혁신을 완성하겠다"고 밝혔다.
정규동 가온칩스 대표는 "이번 2나노 신규 프로젝트는 최첨단 공정과 차세대 설계 기술이 요구되는 중요한 이정표로, 당사의 기술력을 신뢰하고 협력을 결정해주신 딥엑스에 깊이 감사드린다"며 "딥엑스의 혁신적인 AI 아키텍처가 최적의 성능과 전력 효율을 구현할 수 있도록 설계 최적화에 전력을 다하겠다"고 전했다.
nylee54@newspim.com
