[서울=뉴스핌] 김현구 기자 = 검찰이 국내 반도체 관련 첨단 산업기술을 해외로 유출한 혐의로 재판에 넘겨져 1심에서 징역형의 집행유예를 선고받은 전직 삼성그룹 임직원에 대해 항소를 제기했다.

3일 법조계에 따르면 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(이성범 부장검사)는 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외 누설 등) 및 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 삼성전자 전직 부장 A씨(44)에게 징역 1년6개월에 집행유예 2년을 선고한 1심 재판부에 양형부당을 이유로 지난달 31일 항소했다.

A씨 지난해 인텔로 이적하기 위해는 삼성의 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 국가핵심기술 및 영업비밀 등 33개 파일을 이메일로 링크한 뒤 외부에서 이를 열람하면서 사진촬영해 부정취득한 혐의를 받는다.

검찰은 1심에서 A씨에게 징역 5년에 벌금 1억원을 구형했지만, 법원은 지난달 28일 그에게 징역 1년6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했다.

검찰 관계자는 "해외로 유출될 경우 국가의 안전보장 및 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정기술을 부정 취득해 사익 목적으로 이를 활용했고, 그럼에도 공판 과정에서 본인의 혐의를 극히 일부만 인정하면서 반성하지 않은 점 등을 고려할 때 더 무거운 처벌을 받게 할 필요가 있다고 판단했다"고 밝혔다.

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