반도체 부문이 29.5조…인프라 구축에 투자
[뉴스핌=최유리 기자] 삼성전자가 올해 46조원 이상을 시설투자에 쓴다. 지난해 같은 기간보다 2배 가까이 늘어난 규모다.
삼성전자는 31일 이 같은 내용의 2017년 시설투자 계획을 발표했다.
우선 올해 전체 시설투자는 약 46조2000원으로 지난해 25조5000원 대비 81.2% 증가할 것으로 예상했다.
사업별로는 반도체 29조5000억원, 디스플레이 14조1000억원 수준이다.
3분기 시설투자는 총 10조4000억원이며 반도체에 7조2000억원, 디스플레이에 2조7000억원이 투자됐다. 올해 들어 3분기까지 누적 32조9000억원 집행됐다.
메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있다. 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.
디스플레이는 플렉서블 유기발광다이오드(OLED) 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행 중이다.
4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이다. 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다.
 |
| 삼성전자 평택 반도체공장 항공사진 <사진=삼성전자> |
[뉴스핌 Newspim] 최유리 기자 (yrchoi@newspim.com)
